設(shè)備原理：
本研磨機(jī)為雙面精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋工件放于下研磨盤上，上下研磨盤相對或同向轉(zhuǎn)動，工件由中心齒輪轉(zhuǎn)動載體使工件自轉(zhuǎn)或公轉(zhuǎn)，通過氣缸對上磨盤施壓，工件與研磨盤作相對運動均勻磨擦，來達(dá)到對工件的研磨拋光目的。
設(shè)備特點：
- 采用日本“SMC”氣動元件，分段精密加壓控制，適合粗磨、中磨、精磨、拋光 等工藝；
- 采用觸摸屏人機(jī)界面，瑞士“ABB”、PLC程序控制系統(tǒng)，確保機(jī)床的穩(wěn)定性及安全性，系統(tǒng)兼容光柵厚度控制系統(tǒng)，分辨率達(dá)0.001，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在±0.002mm范圍內(nèi)，平面度公差可控制在± 0.001mm 范圍內(nèi)；
- 采用日本“NSK”主軸軸系，確保機(jī)床的精密性及耐用性；
- 齒圈及擋水盤半自動升降系統(tǒng)，即方便取放工件及咬合齒輪，又滿足改變游輪咬合高低位置的要求；
- 整機(jī)的運行采用獨立電機(jī)拖動，使上盤、下盤、中心輪的速度達(dá)到理想配比，游輪實現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿足修盤工藝需求。
